《科創(chuàng )板日報》9月7日訊（記者 郭輝）國產(chǎn)半導體芯片制造的又一核心環(huán)節正在迎頭趕上。

國內計算光刻技術(shù)領(lǐng)域“獨角獸”企業(yè)東方晶源微電子科技（北京）股份有限公司（下稱(chēng)“東方晶源”），日前在北京證監局進(jìn)行上市輔導備案，或將登陸科創(chuàng )板。報告顯示，該公司輔導期至今年12月，輔導機構為中信建投。

東方晶源多款計算光刻產(chǎn)品研發(fā)已獲進(jìn)展并陸續進(jìn)入驗證期，其中PanGen是國內首款且成功在國內主流邏輯和存儲Fab先進(jìn)制程節點(diǎn)進(jìn)行量產(chǎn)應用的OPC軟件。同時(shí)東方晶源三款電子束檢測、量測設備，已經(jīng)過(guò)產(chǎn)線(xiàn)驗證并進(jìn)入量產(chǎn)，相關(guān)產(chǎn)品此前已向中芯國際、燕東微等廠(chǎng)商交付。

多款國產(chǎn)計算光刻產(chǎn)品取得進(jìn)展

東方晶源成立于2014年，總部位于北京亦莊經(jīng)濟技術(shù)開(kāi)發(fā)區，是一家專(zhuān)注于集成電路良率管理的企業(yè)，核心產(chǎn)品包括計算光刻產(chǎn)品（OPC）、電子束缺陷檢測設備（EBI）以及關(guān)鍵尺寸量測設備（CD-SEM）。

其中計算光刻業(yè)務(wù)最為值得關(guān)注。計算光刻技術(shù)是通過(guò)對掩膜、光源的正向或反演優(yōu)化，來(lái)降低因光波衍射影響光刻效果程度的技術(shù)，通常采用計算機建模、仿真光刻工藝的光化學(xué)反應和物理過(guò)程，從理論上指導光刻工藝參數的優(yōu)化，提升最終成像的精確度。

更通俗來(lái)講，計算光刻技術(shù)之于光刻機，相當于工匠的一雙手之于刻刀。作為連接芯片設計與制造的重要環(huán)節，計算光刻相關(guān)軟件是制造EDA軟件的核心技術(shù)，不僅是突破先進(jìn)工藝制程節點(diǎn)的關(guān)鍵性協(xié)同技術(shù)，同時(shí)也是保證硅片量產(chǎn)圖像不失真、決定芯片制造良率的必需環(huán)節。

中銀證券研報顯示，計算光刻軟件產(chǎn)品核心供應商為ASML、Mentor、Synopsys等國際廠(chǎng)商，技術(shù)方向通常包括光學(xué)鄰近效應修正（OPC）、光源-掩膜協(xié)同優(yōu)化技術(shù)（SMO）、多重圖形技術(shù)（MPT）、反演光刻技術(shù)（ILT）等。據了解，美國曾在2020年將計算光刻軟件、5nm集成電路生產(chǎn)工藝技術(shù)等多項新興技術(shù)列入管制清單。

東方晶源多款計算光刻產(chǎn)品研發(fā)已獲進(jìn)展并陸續進(jìn)入驗證期。

公司發(fā)布的信息表示，其計算光刻軟件PanGen具備完整的功能鏈條——包括精確的制程仿真，是國內首款且成功在國內主流邏輯和存儲Fab先進(jìn)制程節點(diǎn)進(jìn)行量產(chǎn)應用的OPC軟件，適用于CPU+GPU混合超算架構、反向計算光刻ILT等前沿技術(shù)。

同時(shí)公司一款嚴格光刻仿真軟件PanSim依托于物理模型對光刻過(guò)程進(jìn)行仿真，能夠精確模擬各種光刻工藝條件。據稱(chēng)，該產(chǎn)品為光刻工藝工程師在進(jìn)行新技術(shù)節點(diǎn)研發(fā)和改進(jìn)生產(chǎn)工藝階段提供重要參考，可大大降低研發(fā)成本。目前，PanSim已經(jīng)在客戶(hù)端進(jìn)行驗證。

此外，東方晶源今年7月表示，依托公司計算光刻O(píng)PC技術(shù)和電子束設備產(chǎn)品，用于支持芯片制造全流程一體化良率管理和提升的軟件產(chǎn)品，目前已在主流Logic Fab 28nm產(chǎn)線(xiàn)驗證中，即將進(jìn)入另一個(gè)大型Fab進(jìn)行驗證。

曾與ASML陷入侵權糾紛

值得關(guān)注的是，東方晶源計算光刻軟件曾陷入與半導體設備巨頭ASML的知識產(chǎn)權侵權糾紛。

2022年初，ASML在其年報中披露，東方晶源與一家位于美國的公司XTAL存在關(guān)聯(lián)關(guān)系，并有著(zhù)可能侵犯ASML知識產(chǎn)權的業(yè)務(wù)往來(lái)。據了解，XTAL曾在2019年因在美國竊取ASML的商業(yè)秘密被判定作出巨額賠償。

東方晶源去年對此回應稱(chēng)，相關(guān)媒體報道和信息與事實(shí)不符，公司計算光刻軟件OPC基于自主研發(fā)，并形成獨立、完備的知識產(chǎn)權體系。截至目前ASML暫未采取法律措施。

東方晶源法定代表人、董事長(cháng)名為俞宗強。有信息顯示，俞宗強此前曾在A(yíng)SML收購的子公司Brion供職，2012年離職后，先后成立并加入XTAL和東方晶源。不過(guò)《科創(chuàng )板日報》今日并未能通過(guò)官網(wǎng)電話(huà)與之取得聯(lián)系并獲取回復。

在今年的世界半導體大會(huì )上，俞宗強發(fā)表演講并提出HPOTM（Holistic Process Optimization）良率最大化技術(shù)路線(xiàn)和產(chǎn)品設計理念。他表示，經(jīng)過(guò)近十年的不斷攻關(guān)，“東方晶源已經(jīng)初步實(shí)現高精度檢測/量測裝備與EDA軟件工具的聯(lián)動(dòng)，打通芯片設計與制造過(guò)程中的信息差……使芯片制造過(guò)程從藝術(shù)到科學(xué)再到智能，在降低芯片制造門(mén)檻、實(shí)現芯片制造自主可控方面探索出一條全新的生態(tài)技術(shù)路徑”。

良率檢測設備交付中芯國際 亦莊國投等資方現身股東名單

除計算光刻軟件產(chǎn)品，東方晶源三款電子束檢測、量測設備，已經(jīng)過(guò)產(chǎn)線(xiàn)驗證并進(jìn)入量產(chǎn)。并且公司推出的12英寸EBI和12英寸、6/8英寸CD-SEM，均為國內首臺。

據公司今年7月發(fā)布的信息，其電子束缺陷檢測設備EBI已進(jìn)入28nm產(chǎn)線(xiàn)，全自動(dòng)量產(chǎn)超過(guò)2年，運行時(shí)間超過(guò)90%，設備使用率超過(guò)80%，電子束圖形分辨率、最大視場(chǎng)、關(guān)鍵缺陷抓取率等關(guān)鍵指標已達到行業(yè)主流水平。

12英寸、6/8英寸關(guān)鍵尺寸量測設備CD-SEM均已進(jìn)入產(chǎn)線(xiàn)量產(chǎn)多時(shí)，可支持Line/Space, Hole/Elliptic，LER/LWR等多種量測場(chǎng)景、滿(mǎn)足多種成像需求。據了解，該公司CD-SEM此前已向中芯國際、燕東微完成交付。

此外公司在今年SEMICON CHINA上最新展示的電子束缺陷復檢設備DR-SEM，據稱(chēng)可滿(mǎn)足28nm及以上邏輯、3D-NAND、DRAM制程的缺陷復檢需求，目前已出機到客戶(hù)端進(jìn)行產(chǎn)線(xiàn)驗證，獲得多個(gè)訂單。

東方晶源此前曾獲三項02重大專(zhuān)項支持，為國家級專(zhuān)精特新“小巨人”企業(yè)，官網(wǎng)顯示公司共申報國內外發(fā)明專(zhuān)利191項，授權發(fā)明專(zhuān)利67項，軟件著(zhù)作權15項。

人員構成來(lái)看，東方晶源研發(fā)人員占比近70%，8%擁有博士學(xué)位，53%擁有碩士學(xué)位，公司核心成員擁有美國硅谷、日本和歐洲等世界一流半導體科技公司的產(chǎn)品研發(fā)和管理經(jīng)驗。

2022年11月，東方晶源宣布完成新一輪近10億元股權融資。天眼查app顯示，目前公司股東包括興橙資本、亦莊國投、三行資本、新鼎資本、諾華資本、寧波致坤、賽領(lǐng)資本、深創(chuàng )投等。